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        立式管式爐的使用必須嚴格按照操作手冊進行

        更新更新時間:2020-01-15點擊次數:2470
          立式管式爐的*設計能夠實現在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫,四面加熱,溫場更均勻,立式結構使得氣體排放更加順暢,爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性,可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點,特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要!
         
          設備采用鋼板精工制作而成,表面采用靜電噴涂,外形美觀。工作室為剛玉管,加熱元件根據溫度需要配套(硅碳棒或硅鉬棒),保溫材料采用輕質保溫保溫加的硅酸鋁耐火纖維棉,與電爐配套的溫控部分采用PID可調智能儀表控制,可編制多個程序段,控制產品的燒制過程,并具有過流、限流、過熱等保護功能。
         
          主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室,應用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
         
          該設備使用必須按照操作規范進行的同時,還應注意以下幾點:
          1、檢查氣路是否暢通或漏氣。先將管路連接無誤后通氧氣,氧氣進入吸收瓶后產生正常氣泡,表明氣路正常,否則說明氣路有堵塞或瓷管有斷裂,應處理正常。
          2、開啟電源,開啟控制器,先預置立式高溫管式爐的工作溫度為1250℃,然后調整電壓為60Ⅴ,升溫半小時,然后調整電壓至100Ⅴ,再升溫半小時,zui后調整電壓至150Ⅴ,升溫至溫度指示在1250℃。如不按照逐漸提高電壓并保證足夠時長的方式升溫,硅碳棒和瓷管受到急熱作用而容易斷裂,因而須嚴格按本規程操作,以免造成大量材料浪費。
          3、在工作溫度保持在1250℃左右時即可進入樣品分析;分析結束后調整電壓歸為零位,關閉控制器開關,關閉電源,zui后關閉氧氣儀表閥門和氣瓶總閥。
         

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